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中國設計出新型態光敏感性半導體存儲器

來源: 日期:2018-02-02 14:25:20

近日有研究團隊基于原子級薄度的半導體研究設計出一種存儲器,除了具有良好的性能,也能夠在完全不需要電力輔助的情況下,用光線就能消除儲存資料,團隊認為這種新的存儲器在系統整合型面板(System on Panel)上,具有非常大的應用潛力。 
 
據報導,復旦大學和中國科學院微電子研究所的Long-Fei He及相關研究人員最近發表了一篇關于新型態存儲器的論文。 
 
因為大多數現有的存儲器技術都不夠輕巧,不能整合應用在顯示面板上,研究人員一直都在研究全新的設計和材料,嘗試制造出同樣具有良好性能、卻能超薄的儲存設備。 
 
在這項新的研究中,研究人員通過二維過度金屬材料“二硫化鉬”(MoS2)的應用,創造出一種原子級薄度的半導體,它的電導率(conductivity)可以被精細的調整,進而形成具有高開關電流比的存儲器基礎元件。 
 
此外,團隊也在測試中證明,這類型存儲器具有運行速度快、大容量的存儲器空間和優異的保存性,研究人員估計,即使處在85°C(185°F)的高溫下10年,儲存空間仍可以保存原有的60%左右,對于實際應用來說仍然足夠。 
 
曾經已有研究證實二硫化鉬具有光敏性(photoresponsive),這意味著一些性質可以運用光來控制,為了了解實際應用情況,團隊也實際進行了相關實驗,結果他們發現,當光線照射到已編程的存儲設備上時,儲存資料被完全消除,但同時運用電壓抹除資訊的方式也仍然可以使用。 
 
團隊目前正在研究透過編程可控的光脈沖波長和時間,來大規模整合這種儲存元件。研究人員相信未來這種儲存設備,將會在系統整合型面板的應用上扮演重要角色。

關鍵詞:半導體存儲器

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